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Casa ProdutosGás do laser do ExcimerO laser feito sob encomenda do Excimer intoxica o laser do fluoreto do argônio para a litografia 193nm
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de boa qualidade gases raros para vendas
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O laser feito sob encomenda do Excimer intoxica o laser do fluoreto do argônio para a litografia 193nm

China O laser feito sob encomenda do Excimer intoxica o laser do fluoreto do argônio para a litografia 193nm fornecedor
O laser feito sob encomenda do Excimer intoxica o laser do fluoreto do argônio para a litografia 193nm fornecedor O laser feito sob encomenda do Excimer intoxica o laser do fluoreto do argônio para a litografia 193nm fornecedor

Imagem Grande :  O laser feito sob encomenda do Excimer intoxica o laser do fluoreto do argônio para a litografia 193nm

Detalhes do produto:

Lugar de origem: China
Marca: Newradar
Certificação: ISO/DOT/GB
Número do modelo: N / A

Condições de Pagamento e Envio:

Quantidade de ordem mínima: 1pcs
Preço: negotiation
Detalhes da embalagem: Cilindro embalado de in10L-50L ou embalado de acordo com as procuras.
Tempo de entrega: 25 dias de trabalho após receberam seu pagamento
Termos de pagamento: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Habilidade da fonte: 500 PCS por o mês
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Descrição de produto detalhada
Nome do produto: Misturas do fluoreto do argônio Gás de enchimento: Mistura de gases do argônio, do néon e do flúor
Tipo da válvula: CGA679 Aplicação: Lasers do Excimer
Volume do cilindro: 4-50L ou personalizam Pressão de enchimento: 1800-2000 Psig

Laser feito sob encomenda do fluoreto do argônio dos gases do laser de Excimer para a litografia 193nm

Descrição:

Misturas de Flúor de Argônio são usadas em aplicações de litografia de 193 nm, geralmente em conjunto com uma mistura de gás inerte.

O laser de fluoreto de argônio é um tipo particular de laser excimer, que às vezes é chamado de laser exciplex. Com seu comprimento de onda de 193 nanômetros, é um laser ultravioleta profundo, que é comumente usado na produção de circuitos integrados de semicondutores, cirurgia ocular, micro-usinagem e pesquisa científica. O termo excimer é a abreviação de "dímero excitado", enquanto exciplex é a abreviação de "complexo excitado". Um excimer laser tipicamente usa uma mistura de um gás nobre e um gás halogênio, que sob condições adequadas de estimulação elétrica e alta pressão, emite radiação estimulada coerente na faixa ultravioleta.

Os lasers ArF excimer são amplamente utilizados em máquinas de fotolitografia de alta resolução, uma das tecnologias críticas necessárias para a fabricação de chips microeletrônicos. A litografia a laser Excimer permitiu que os tamanhos dos recursos dos transistores diminuíssem de 800 nanômetros em 1990 para 22 nanômetros em 2012.

Especificações:

1. Propriedades Físicas

Mercadoria Gás de flúor argônio
Fórmula molecular ArF
Estágio Gás
Cor

Incolor

Classe perigosa para transortar 2,2

2 Dados técnicos típicos (COA)

Componentes principais
COMPONENTES CONCENTRAÇÃO ALCANCE
Flúor 1,0% 0,9-1,0%
Argônio 3,5% 3,4-3,6%
Néon Equilibrar
Impurezas Maxinum
COMPONENTE CONCENTRAÇÃO (ppmv)
Dióxido de Carbono (CO2) <5,0
Monóxido de Carbono (CO) <1,0
Tetrafluoreto de carbono (CF4) <2,0
Carboneto de fluoreto (COF2) <2,0
Hélio (ele) <8,0
Umidade (H2O) <25,0
Nitrogênio (N2) <25,0
Trifluoreto de Nitrogênio (NF3) <1,0
Oxigênio (O2) <25,0
Tetrafluoreto de silício (SiF4) <2,0
Hexafluoreto de enxofre (SF6) <1,0
THC (como metano) (CH4) <1,0
Xenon (Xe) <10,0

3. pacote

Especificações do cilindro Conteúdo Pressão
Cilindro Opções de saída de válvula Pés cúbicos Litros PSIG BARRA
1 CGA679 DISS 728 265 7500 2000 139
2 CGA679 DISS 728 212 6000 2000 139
3 CGA679 DISS 728 71 2000 1800 125

Aplicações:

Misturas de Flúor de Argônio são usadas em aplicações de litografia de 193 nm, geralmente em conjunto com uma mistura de gás inerte.

Contacto
Wuhan Newradar Special Gas Co.,Ltd

Pessoa de Contato: Suyee Su

Telefone: +8618602768623

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