| Lugar de origem: | China |
|---|---|
| Marca: | Accept OEM |
| Certificação: | ISO9001 |
| Número do modelo: | Não |
| Quantidade de ordem mínima: | 30KGS |
| Preço: | negotiation |
| Detalhes da embalagem: | 30lb - pacote do cilindro 926L |
| Tempo de entrega: | 6-10 dias |
| Habilidade da fonte: | de 50 toneladas |
| CAS No.:: | 685-63-2 | Outros nomes:: | 1,1,2,3,4,4-hexafluorbuta-1,3-dieen |
|---|---|---|---|
| Classe do perigo: | 2.3 | Lugar de origem:: | Hubei |
| Pureza:: | 99,95% | Aplicação:: | plasma Fluorocarbon-baseado que grava o |
| Pacote:: | cilindros de aço sem emenda | Volume dos cilindros:: | 926L |
| Realçar: | Gás Elétrico,pureza mais gás da especialidade |
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C4F6 gás, Hexafluoro-1,3-butadiene para o laboratório químico da pesquisa
Descrição:
O butadine do ‐ Hexafluoro1,3 é um gás comprimido liquefeito tóxico, incolor, inodoro, inflamável.
O gás C4F6 como um gás etchant para gravura a água-forte alta do furo do contato do prolongamento pode ser um bom
alternativa aos gás de PFC.
gás que gravar seca de hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) desenvolveu em Rússia. C4F6 permite gravura a água-forte seca em uma linha largura de tão estreito quanto 90 nanômetro ou menos. É consequentemente indispensável para o sistema de processamento LSIs e de alta velocidade, os dispositivos de memória da grande-capacidade que são usados cada vez mais em dispositivos elétricos digitais e em exposições de cristal líquidas.
Os gás do Fluorocarbon são amplamente utilizados para processar o filme de óxido do silicone. Comparado com o octafluorocyclobutane (C4F8) usado atualmente processando na linha largura de 130 nanômetro, C4F6 tem as seguintes vantagens:
baixa carga 1.Very ambiental como é decomposto em menos de dois dias na atmosfera (comparada com os 3.200 anos para C4F8)
2.Therefore, útil como uma alternativa aos perfluorocarbons com potencial alto do aquecimento global.
prolongamento 3.High, tendo por resultado os sulcos estreitos e profundos (apropriados para processar na linha largura muito estreita).
seletividade 4.High (assegura gravura a água-forte do filme de óxido do silicone somente; não afeta o fotoresistente, a carcaça de silicone ou o filme do nitreto)
PROPRIEDADES FÍSICAS E QUÍMICAS
| APARÊNCIA E ODOR | GÁS @ 25 °C E 760 mmHg. |
| PONTO DE DERRETIMENTO: | °C -132,1 |
| PONTO DE EBULIÇÃO | °C 6 -7 @ 760 mmHg |
| PRESSÃO DE VAPOR: | 25 °C do psia @ 20 |
| DENSIDADE: | 1,553 g/mL @ do °C -20 |
| R.I.: | °C 1,378 @ -20 |
PACOTE PADRÃO INFORMATION-ASIA E AMERICA DO NORTE
| Tamanho do recipiente | aço 44L | aço 8L |
| Pesos da suficiência (quilogramas) | 45 | 5 |
| Válvula ConnecƟon | PneumaƟc DISS 724 | DISS manual 724 |
| Dimensões do cilindro (dentro) | 9x51 | 7x19 |
Aplicações:
1. Pode usar-se gravura a água-forte flúor-baseada.
2. C4F6 pode usar-se como o filme organometálico que forma gás.
