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Pureza eletrônica alta 99,9% Hexafluoroethane F116 dos gás da densidade relativa

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Detalhes do produto:

Lugar de origem: China
Marca: newradar
Certificação: ISO/DOT/GB
Número do modelo: N / A

Condições de Pagamento e Envio:

Quantidade de ordem mínima: 1000 quilogramas
Preço: negotiation
Detalhes da embalagem: embalagem padrão da exportação: cada cilindro a ser protegido por duas poli-redes, estando na pálete
Tempo de entrega: 15-25 dias de trabalho após receberam seu pagamento
Termos de pagamento: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Habilidade da fonte: 3,00 toneladas pelo mês
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Descrição de produto detalhada
Riscos para a saúde: densidade relativa alta Lista de IPCC de gáses de estufa.: Sim
Outros nomes: Hexafluórido do carbono, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, Halocarbon 116, P Aparência:: gás liquefeito incolor
UN não.: 2193 Grade Padrão: Categoria industrial da categoria do elétron
Sinónimos: 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etana, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo Aplicação: Equipamento da eletrônica, transformador, refrigerando o líquido
MF:: C2F6

Pureza 99,9% Hexafluoroetano , F116 F ou Eching O S ili o Dióxido O S o o S ili o

Descrição:

O hexafluoroetano pode ser usado em uma tecnologia de corrosão multifuncional, comum na produção de semicondutores. Pode ser usado para siliceto de metal e óxido de metal e corrosão seletiva em relação à sua matriz de metal. Além disso, também é usado para gravar silício em silício.

O hexafluoroetano pode ser utilizado em conjunto com o trifluorometano para o refrigerante R508A (hexafluoretano 61%) e R508B (hexafluoroetano 54%).

Especificações:

1. Propriedades Físicas

Mercadoria

Hexafluoroetano

Fórmula molecular

R116

CAS No

76-16-4

No. ONU

2193

Classe Perigosa

2,2

MF:

C2F6

Capacidade do cilindro

40L, 500L

Peso de enchimento

Cilindro recarregável de 530kg / 500L

Cilindro recarregável 20kg / 40L

Armazenamento e Transporte

Use, armazene e transporte abaixo de 45 ° C. Armazene em áreas frescas e bem ventiladas. Mantenha longe do fogo, calor, luz solar e substâncias inflamáveis. Manuseie com cuidado ao carregar e descarregar para evitar danos aos cilindros de gás e acessórios.

2 Dados técnicos típicos

Pureza,% ≥99,8
Umidade, PPm ≤10
Acidez, PPm ≤1
Resíduo de Vapor, PPm ≤100
Aparência Incolor, sem turbidez
Odor Nenhum Fedor Estranho

Peso molecular 66,1
Ponto de ebulição, ° C -24,7
Temperatura crítica, ° C 113,5
Pressão crítica, Mpa 4,58
Calor Específico de Líquido, 30 ° C, [KJ / (kg ° C)] 1,68
ODP 0
GWP 0,014

Aplicações:

Tecnologia de gravação multi-funcional Na produção de gravura semicondutor de metal
O substrato de metal

Pode ser usado na gravação seletiva de silício metálico e óxido metálico.

Sob exposição prolongada ao fogo ou calor intenso, os recipientes podem romper-se violentamente e atingir o foguete.

Contacto
Wuhan Newradar Special Gas Co.,Ltd

Pessoa de Contato: Jeraldine

Telefone: +8615377562133

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