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Do gás de UHP oxigênio das mistura de gases da especialidade O2 e CF4 com o fabricante da mistura de Tetrafluoromethane

Certificado
de boa qualidade gases raros para vendas
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Do gás de UHP oxigênio das mistura de gases da especialidade O2 e CF4 com o fabricante da mistura de Tetrafluoromethane

China Do gás de UHP oxigênio das mistura de gases da especialidade O2 e CF4 com o fabricante da mistura de Tetrafluoromethane fornecedor

Imagem Grande :  Do gás de UHP oxigênio das mistura de gases da especialidade O2 e CF4 com o fabricante da mistura de Tetrafluoromethane

Detalhes do produto:

Lugar de origem: China
Marca: newradar / accept OME
Certificação: ISO/DOT/GB
Número do modelo: N / A

Condições de Pagamento e Envio:

Quantidade de ordem mínima: 1000 litros
Preço: negotiation
Detalhes da embalagem: 10kg, 40kg ou 50kg embalaram no cilindro de gás qualificado ou embalaram de acordo com as procuras
Tempo de entrega: 15-25 dias de trabalho após receberam seu pagamento
Termos de pagamento: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Habilidade da fonte: 3,00 medidores cúbicos pelo mês
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Descrição de produto detalhada
Aplicação: processo da litografia 248nm e misturado com o halogênio usando gás misturados DFS: tetrafluoromethane
UN NENHUM: 1982 oxigênio: O2
Package:: cilindros do aço sem emenda Outros nomes: Mistura do tetrafluoride do carbono do oxigênio
Aparência:: GÁS INCOLOR Volume dos cilindros:: 10L, 25L, 40L ou 50L
Grade Padrão: Categoria da categoria do elétron Tóxico: Não-tóxico

 

Do gás de UHP oxigênio das mistura de gases da especialidade O2 e CF4 com o fabricante da mistura de Tetrafluoromethane

 

Descrição:

 

Etch.control anisotrópico. Outros halocarbons, assim como a presença de ar ou de oxigênio, são prejudiciais ao controle de resultados do theTetrafluoride no controle superior do processo, que conduz a melhor dimensional e ao perfil. Uma pureza mais alta Carbonor CF2conditions, o flúor que os radicais livres são tipicamente sob a forma do Tetrafluoride de CF3Carbon é relativamente inerte em condições normais e é um agente asfixiante. Sob plasmaprocesses do RF. O Tetrafluoride do carbono é usado com oxigênio para gravar o polysilicon, o dióxido de silicone, e o nitreto de silicone. O Tetrafluoride do carbono é uma fonte de radicais livres do fluoreto do flúor ou do carbono usados uma variedade de gravura em àgua forte da bolacha

 

 

Especificações:

 

1. Propriedades físicas

 

Componentes principais
COMPONENTES CONCENTRAÇÃO ESCALA
O2 20% 19.9-20.1%
CF4 Equilíbrio  

 

 

 

 

 

 

2. dados técnicos típicos (COA)

 

Impurezas máximas
COMPONENTES CONCENTRAÇÃO (ppm)
Dióxido de carbono (CO2) <1>
Monóxido de carbono (CO) <1>
Umidade (H2O) <0>
Nitrogênio (N2) <10>
Oxigênio (O2) <5>
THC (como o metano) (CH4) <0>
Outros Halocarbons <1>
Hexafluórido do enxofre <1>

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cilindro Specifications* Índices Pressão
Cilindro Opções da tomada da válvula Libras PSIG BARRA
2 CGA 580 DISS 716 70 2000 139

 

 

 

 

 

Aplicações:

 

1

 Tetrafluoromethane é usado às vezes como um líquido refrigerante da baixa temperatura.

 

2

 É usado no microfabrication da eletrônica apenas ou em combinação com o oxigênio como um plasma etchant para o silicone, o dióxido de silicone, e o nitreto de silicone.

 

3

 Igualmente tem usos em detectores de nêutron

 

 

Contacto
Wuhan Newradar Special Gas Co.,Ltd

Pessoa de Contato: Bella

Telefone: +8615927358762

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