Gás de gravação com água-forte da pureza 99,95% elétricos do gás C4F6 para o processamento do semicondutor

C4F6 gás de gravação com água-forte da pureza 99,95% para o processamento do semicondutor

Descrição:

gás que gravar seca de hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) desenvolveu em Rússia. C4F6 permite gravura a água-forte seca em uma linha largura de tão estreito quanto 90 nanômetro ou menos. É consequentemente indispensável para o sistema de processamento LSIs e de alta velocidade, os dispositivos de memória da grande-capacidade que são usados cada vez mais em dispositivos elétricos digitais e em exposições de cristal líquidas.

Os gás do Fluorocarbon são amplamente utilizados para processar o filme de óxido do silicone. Comparado com o octafluorocyclobutane (C4F8) usado atualmente processando na linha largura de 130 nanômetro, C4F6 tem as seguintes vantagens:

PACOTE PADRÃO INFORMATION-ASIA E AMERICA DO NORTE

Aplicações:

1. Pode usar-se gravura a água-forte flúor-baseada.

2. Igualmente pode usar-se em gás de limpeza,

3. C4F6 pode usar-se como o filme organometálico que forma gás,