Lugar de origem: | Shandong |
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Marca: | OEM |
Certificação: | ISO9001 |
Número do modelo: | N/M |
Quantidade de ordem mínima: | 100 QUILOGRAMAS |
Preço: | negotiation |
Detalhes da embalagem: | 30lb - pacote do cilindro 926L |
Tempo de entrega: | 7-10 dias |
Termos de pagamento: | Western Union, L/C, T/T |
Habilidade da fonte: | de 50 toneladas |
Pressão de enchimento:: | 5MPa | UN não:: | 3160 |
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Reações do ar & da água: | GÁS ALTAMENTE INFLAMÁVEL. TÓXICO MESMO. TÓXICO MESMO PELA INALAÇÃO. RISCO DE EXPLOSÃO SE AQUECIDO SO | Certificado dos cilindros:: | GB, ISO, CE, PONTO |
Capacidade da fonte:: | De 30 toneladas pelo mês | Aplicação:: | semi indústria |
Pacote:: | cilindro 30-1000kg/per | Volume dos cilindros:: | 30LB, cilindro 50LB descartável |
Realçar: | Gás Elétrico,pureza mais gás da especialidade |
Gás C4F6 usado em dispositivos elétricos digitais e em exposições de cristal líquidas
Descrição:
Na molécula C4F6 o C: A relação de F é alta bastante controlar a quantidade de polímero na superfície da câmara e na superfície da bolacha no que diz respeito aos radicais gravura a água-forte de F. Mais importante é, que a característica intrínseca permite a seletividade alta às carcaças ou a foto resiste e um processo mais largo por exemplo C4F8 comparado janelas (Octafluorobutane). Este comportamento é particularmente benéfico endereçar a necessidade para o sub exigências de 0,25 m.
Em usar o argônio como a seletividade do nitreto do gás de portador pode conduzir a uma função de diminuição. Xênon porque o outro gás de portador possível tem uma seletividade aumentada. Consequentemente as misturas de Ar/Xe são um bom acordo.
Mercados & aplicações
INFORMAÇÃO TOXICOLOGICAL
ROTA DA EXPOSIÇÃO | INALAÇÃO: TÓXICO MESMO SE INALADO. PELE: MAIO SEJA PREJUDICIAL SE ABSORVIDO ATRAVÉS DA PELE. IRRITAÇÃO DE PELE DA CAUSA DE MAIO. CONGELAÇÃO DA CAUSA DE MAIO. OLHOS: IRRITAÇÃO DE OLHO DA CAUSA DE MAIO. |
SINAIS E SINTOMAS DA EXPOSIÇÃO | PARA O MELHOR DO NOSSO CONHECIMENTO, O PRODUTO QUÍMICO, OS FÍSICOS, E PROPRIEDADES TOXICOLOGICAL NÃO FORAM INVESTIGADOS COMPLETAMENTE. |
Aplicações:
1. C4F6 é sugerido para o uso no plasma, no feixe de íon ou gravura a água-forte do salpico na fabricação dos dispositivos de semicondutor.
2. Os resultados particularmente proeminentes foram observados gravura a água-forte dielétrica do plasma com Xe e na AR como o gás de portador e os dilutants. No plasma o dielétrico que grava o é importante controlar as química do plasma a fim equilibrar a espécie gravura a água-forte e do depósito.