| Lugar de origem: | Shandong |
|---|---|
| Marca: | OEM |
| Certificação: | ISO9001 |
| Número do modelo: | N/M |
| Quantidade de ordem mínima: | 100 QUILOGRAMAS |
| Preço: | negotiation |
| Detalhes da embalagem: | 30lb - pacote do cilindro 926L |
| Tempo de entrega: | 7-10 dias |
| Termos de pagamento: | Western Union, L/C, T/T |
| Habilidade da fonte: | de 50 toneladas |
| Odor:: | Inodoro | Cor: | incolor |
|---|---|---|---|
| Reações do ar & da água: | GÁS ALTAMENTE INFLAMÁVEL. TÓXICO MESMO. TÓXICO MESMO PELA INALAÇÃO. RISCO DE EXPLOSÃO SE AQUECIDO SO | Certificado dos cilindros:: | GB, ISO, CE, PONTO |
| Capacidade da fonte:: | De 30 toneladas pelo mês | Aplicação:: | semi indústria |
| Pacote:: | cilindro 30-1000kg/per | Volume dos cilindros:: | 30LB, cilindro 50LB descartável |
| Realçar: | Gás Elétrico,pureza mais gás da especialidade |
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Gás a favor do meio ambiente do gás C4F6 para a química gravura em àgua forte
Descrição:
Hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) é um gás relativamente novo gravura em àgua forte para a fabricação de dispositivos de semicondutor, especialmente nos processos críticos gravura em àgua forte que precisam prolongamentos e a seletividade altos. Pode combinar muito o elevado desempenho com um efeito ambiental benigno. Este gás tem-se tornado disponível em uma escala industrial somente recentemente e nós sentimos a necessidade de aumentar os dados em nossa possessão em seu comportamento na câmara do plasma e nos sistemas de entrega do gás.
As intensidades do íon, e as densidades atuais do íon total absoluto mediram ambos para a descarga gerada em C4F6 puro e na mistura com argônio. Além, a relação de densidades radicais relativo aos CF medidos usando medidas da espectroscopia de absorção de secundário-milímetro e da espectroscopia de emissão ótica é apresentada para diversas pressões de gás e relações da mistura de gases. Uma comparação com c-C4F8 é feita.
A compatibilidade material deste gás, que mostram como este gás ‘exótico’ pode ser segurada com materiais padrão. Os benefícios os mais significativos do gás C4F6 tornam-se evidentes de seu desempenho demonstrado para uma escala dos processos avançados cada vez mais de exigência gravura em àgua forte que exigem a seletividade alta concomitante a 193 fotoresistente do nanômetro, a hardmasks, e a uma variedade de underlayers ao preservar o controle crítico da dimensão e de perfil. As vantagens de C4F6 basearam processos gravura em àgua forte, tais como o contato alto do prolongamento/através gravura em àgua forte, máscara alta da seletividade aberta, e os processos damascene duplos gravura em àgua forte, desenvolvidos etcher dielétrico dos materiais aplicados, e as análises de dados das emissões de PFC são discutidos.
ESTABILIDADE E REATIVIDADE
| ESTABILIDADE | ESTÁBULO: ESTÁBULO SOB CIRCUNSTÂNCIAS DE ARMAZENAMENTO RECOMENDADAS. MATERIAIS A EVITAR: AGENTES DE OXIDAÇÃO FORTES. CIRCUNSTÂNCIAS A EVITAR: NÃO PERFURE NEM NÃO SE QUEIME, MESMO DEPOIS O USO. NÃO PULVERIZE EM UMA CHAMA A DESCOBERTO OU EM NENHUM MATERIAL INCANDESCENTE. CALOR, CHAMAS E FAÍSCAS. |
| PRODUTOS PERIGOSOS DA DECOMPOSIÇÃO | PRODUTOS PERIGOSOS DA DECOMPOSIÇÃO: ÓXIDOS DO CARBONO, FLUORETO DE HIDROGÊNIO. |
| POLIMERIZAÇÃO PERIGOSA | POLIMERIZAÇÃO PERIGOSA: NÃO OCORRERÁ. |
INFORMAÇÃO TOXICOLOGICAL
| ROTA DA EXPOSIÇÃO | INALAÇÃO: TÓXICO MESMO SE INALADO. PELE: MAIO SEJA PREJUDICIAL SE ABSORVIDO ATRAVÉS DA PELE. IRRITAÇÃO DE PELE DA CAUSA DE MAIO. CONGELAÇÃO DA CAUSA DE MAIO. OLHOS: IRRITAÇÃO DE OLHO DA CAUSA DE MAIO. |
| SINAIS E SINTOMAS DA EXPOSIÇÃO | PARA O MELHOR DO NOSSO CONHECIMENTO, O PRODUTO QUÍMICO, OS FÍSICOS, E PROPRIEDADES TOXICOLOGICAL NÃO FORAM INVESTIGADOS COMPLETAMENTE. |
Aplicações:
1. Uma nova geração de gás gravura a água-forte do semicondutor.
plasmas alternativos do gás 2.Perfluorocarbon para gravura em àgua forte do furo do contato.
3.Plasma que grava processos para dispositivos do mícron do Secundário-quarto:
