| Lugar de origem: | China |
|---|---|
| Marca: | Newradar Gas |
| Certificação: | ISO9001 |
| Número do modelo: | N/M |
| Quantidade de ordem mínima: | 60 quilogramas |
| Preço: | Negociável |
| Detalhes da embalagem: | 30lb - pacote do cilindro 926L |
| Tempo de entrega: | 7-10 dias |
| Termos de pagamento: | Western Union, L/C, T/T |
| Habilidade da fonte: | de 50 toneladas |
| Aparência:: | Gás | Cor: | incolor |
|---|---|---|---|
| Odor:: | inodoro | Peso molecular:: | 162,03 g/mol |
| Ponto de ponto de derretimento/congelação:: | -130 C | Escala de ponto de ebulição/ebulição:: | -5,5 C |
| Ponto de inflamação:: | ./. | Nome químico:: | Hexafluoro-1,3-butadiene |
| Destacar: | Gás Elétrico,pureza mais gás da especialidade |
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C4F6 que grava o gás para o processamento do semicondutor
Descrição:
C4F6 (Hexafluoro-1,3-butadiene) é usado para aplicações dielétricas gravura em àgua forte. Hexafluoro-1,3-butadiene é um gás comprimido liquefeito tóxico, incolor, inodoro, inflamável.
Pacote: 44~49L cilindro, válvula de CGA350 SS
Índice de enchimento: 20kg/cyl
C4F6, é um gás a favor do meio ambiente, de capacidade elevada da especialidade da fabricação do semicondutor isso
fornece taxas altas gravura em àgua forte, o bom controle do prolongamento e a seletividade alta a
fotoresistente em aplicações dielétricas críticas gravura em àgua forte.
O gás C4F6 melhora resultados dielétricos do processo gravura em àgua forte em muitas áreas de processamento chaves, incluindo as aplicações damascene duplas de cobre e baixos materiais dielétricos de K para 0,13 mícrons e além dos projetos de microplaqueta. Sifren 46 igualmente fornece vantagens ambientais em baixas emissões do aquecimento global e zero
potencial da prostração de ozônio.
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PROPRIEDADES FÍSICAS E QUÍMICAS
| APARÊNCIA E ODOR | GÁS @ 25 °C E 760 mmHg. |
| PONTO DE DERRETIMENTO: | °C -132,1 |
| PONTO DE EBULIÇÃO | °C 6 -7 @ 760 mmHg |
| PRESSÃO DE VAPOR: | 25 °C do psia @ 20 |
| DENSIDADE: | 1,553 g/mL @ do °C -20 |
| R.I.: | °C 1,378 @ -20 |
PACOTE PADRÃO INFORMATION-ASIA E AMERICA DO NORTE
| Tamanho do recipiente | aço 44L | aço 8L |
| Pesos da suficiência (quilogramas) | 45 | 5 |
| Válvula ConnecƟon | PneumaƟc DISS 724 | DISS manual 724 |
| Dimensões do cilindro (dentro) | 9x51 | 7x19 |
Aplicações:
1. processos gravura a água-forte do plasma para dispositivos do mícron do Secundário-quarto.
2. plasmas alternativos do gás de Perfluorocarbon
3. Usado nos TFT-LCDs e no photovoltaics.